首先我們確定一個思路：先分析并列舉光子經(jīng)過非晶硅電池時主要損失，然后就各點得出相應的對策以避免或減少損失。

1.欠能和過能損失：

即能量低于帶隙的光子和能量高出帶隙的光子。在晶硅電池里，僅這兩項損失就損失掉百分之六十幾的光照能量——相當可觀的數(shù)字;在非晶硅電池里，這個數(shù)字應該略有不同，但相信差不了多少，道理是一樣的。所以個人認為，把提升效率的主要注意力放在這里，在這兩項中尋找突破，那將是跳躍式的進步。

2.串聯(lián)電阻分壓損失和并聯(lián)電阻分流損失，而串聯(lián)電阻主要是包括電極在內(nèi)的各區(qū)體電阻和各個交界面的接觸電阻--此電阻當然越小越好;并聯(lián)電阻分流則主要是電池表面的漏電流和pN結區(qū)存在雜質和缺陷引起的漏電流，也可以簡單的說是前、背表面復合和結區(qū)復合中心復合損失。這一項損失也占有比較大的比重。

3.反射損失

4.光生載流子還未來得及被pN結分離便復合掉了

5.暗電流分流損失。

對策及解決方法：

對于1.目前最常用的是多層結構，不同帶隙的材料按照從大到小的順序自上而下依次排列，高能光子被相應的寬帶隙層吸收，低能光子被相應的窄帶隙層吸收。由此拓寬了光譜響應的范圍，理想的情況是，在整個從紫外到紅外光譜區(qū)域上都能得到有效的吸收。另外在這點上，本人有個設想：pIN結構中，p、N兩層是做為“死層”而存在的，主要起提供電場的作用，而他們區(qū)域內(nèi)的載流子對光電流幾乎不起作用，那么我們能不能讓他們變成“活層”，也對光電流起貢獻，比如p、N兩層都用微晶硅或者納米硅。

對于2.這里涉及到多個方面：

首先降低各區(qū)包括電子在內(nèi)的體電阻，主要是半導體層的電阻，那么就要求電阻率盡量小，根據(jù)半導體物理學，室溫下，增加摻雜濃度(或者同摻雜下盡量降低工作溫度)可以減小電阻率。(但摻雜過高會引起過摻雜效應，所以要“適當”)

其次為減少界面處的接觸電阻，需要盡可能的減少晶格失配等問題，比如有公司用的a-SiC:H做窗口層，它和下面I層的a-Si:H就存在著一定的晶格失配。可以考慮用氫化納米非晶硅做窗口層，用微晶硅或者納米硅做p和N層。

再次，盡可能的減少表面復合和結區(qū)復合，一般的方法是H表面鈍化和H對內(nèi)部懸掛鍵的飽和，以及進可能的減少O、N等雜質以減少復合中心。在這點上，我個人的的想法是，使用微波電子回旋共振法代替當前普遍使用的pECVD--兩大明顯優(yōu)勢：一，前者是無電極放電，因而避免了因后者電極引入的雜質。二，放電功率高，并能使H氣最大限度的離解，也極大的降低了由于H氣引入的一些缺陷態(tài)，進而一定程度上抑制了S-W效應。

對于3.電池上表面作成絨面的陷光結構+增透膜;電池背面加背反射層

對于4.多層的基礎上適當?shù)臏p薄I層的厚度以增強電場強度，從而增強載流子的吸收

對于5.暗電流是光生電壓引出到外電路之后引起的“正向電流”，該如何減少本人暫不明白。

以上是個人在學習過程中總結出的一點看法，也許有不當之處，還請高手們指正;另外，我發(fā)此帖子也只是拋磚引玉，希望大家各抒己見，目的是我們能夠共同進步